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首个半导体薄膜设备生产基地在沈投入使用

时间:2018-11-08 13:06来源:作者: 点击:
在国家大基金、国家科技部重大专项以及省市区三级政府的大力支持下,,沈阳拓荆科技有限公司投资兴建的新厂区正式投入使用,该基地是目前国内首个半导体薄膜设备产业化基地,总建
  

  日前,记者在沈阳拓荆科技有限公司获悉,在国家大基金、国家科技部重大专项以及省市区三级政府的大力支持下,沈阳拓荆科技有限公司投资兴建的新厂区正式投入使用。该基地是目前国内首个半导体薄膜设备产业化基地,仅用一年零三个月就完成了项目建设。新厂区占地80亩,总建筑面积40000平方米,拥有十级、百级、千级洁净厂房共计2800平方米。拓荆公司相关负责人介绍说,该基地一期可实现年产100台套产品能力,二期投产后,公司产能将达到年产350台套,同时,可支撑年产值达50亿元的生产规模,该基地的成功投入使用,将对沈阳制造迈向中高端起到拉动作用。

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